La superficie del componente se limpia y pretratiza a fondo para eliminar contaminantes como aceites, polvo, y óxidos. La preparación adecuada de la superficie es crucial para garantizar una fuerte adhesión y un grosor de recubrimiento uniforme.

Las piezas limpias se cargan en una cámara de vacío, que luego se sella y evacúa para crear un entorno de baja presión. Lograr las altas condiciones de vacío minimiza la contaminación y permite un control preciso sobre la deposición.

El material de recubrimiento (a menudo un objetivo de metal o cerámica) se vaporiza utilizando uno de varios métodos, como pulverizar, evaporación de arco, o evaporación del haz de electrones. El material pasa de sólido a fase de vapor sin pasar a través de un estado líquido.

Los átomos o iones vaporizados viajan a través del vacío y están dirigidos hacia el sustrato. Este transporte puede estar influenciado por campos magnéticos o potenciales eléctricos para controlar la uniformidad y la densidad de deposición.

El material vaporizado se condensa y forma un delgado, denso, y película adherente en la superficie del sustrato. Los parámetros del proceso, como la temperatura, presión, y tasa de deposición: están cuidadosamente regulados para lograr las características de la película deseadas, incluyendo grosor, dureza, y morfología.